等离子体增强滑动式PECVD管式炉是一款滑动式PECVD系统。该CVD系统包含500W等离子源, 80Dx1600L mm 滑动式, 4通道质量流量供气系统和机械泵机组,此PECVD系统主要用于:等离子诱导表面改性;等离子清洗;等离子聚合; 表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、等离子体类金刚石等多种薄膜,生长纳米或石墨烯。与传统的CVD管式炉系统相比,只需较低的制备温度,滑轨式还可以快速加热和快速冷却。
等离子体化学气相沉积PECVD系统以真空管式炉为主体,具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统,动态衬底温控,控制真空系统,采用集中现场控制总线技术的nobody控制软件,以及友好用户操作界面来操作。
等离子体化学气象沉积技术是未来先进前展性科学技术,有广阔的发展前景。郑州恒通炉业有限公司的可组合式等离子增强化学气相沉积装置是相关单位的不二选择。